微流控光刻机-顶旭微控技术有限公司-微流控光刻机优势

技术参数

曝光光源：紫外LED光源波长：365nm;

曝光面积：4英寸、6英寸可选；

曝光方式：单面接触式定时曝光；

曝光分辨率：2um；

曝光强度：20~200mW/cm2可调；

曝光不均匀性：≤5%；

光源平行性：≤2°；

光源寿命：≥20000h；

电源输入：AC220V±10V，50HZ

功率：250W

重量：25kg

外形尺寸：382（长）*371（宽）*435（高）

工作环境：温度0℃-40 ℃，相对湿度＜80 %

顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等quan面的微流控解决方案。公司团队拥有丰富的经验和技术积累，微流控光刻机价格，持续将专ye知识与创新思维相结合，为客户提供高pin质的解决方案。

使用方法该设备操作简单，易于上手，具体操作如下：

一、曝光前准备工作

1、硅片处理：确保待曝光硅片经过匀胶处理，微流控光刻机优势，表面干净平整，没有明显的污渍或破损。

2、选择光刻板：根据项目需要，选择合适尺寸的光刻板，本设备兼容4英寸、5英寸或6英寸。

3、设备检查：仔细检查设备，微流控光刻机，确保所有部件处于正常工作状态，确保操作环境良好。

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顶旭光刻机广泛适用于微流控芯片、MEMS器件、光电子器件以及声表面波器件等制备领域。其性能尤其适合高校、科研院所以及企业展开微细加工工艺研究。紧随现代技术的步伐，顶旭桌面微型光刻机的问世为微纳加工注入了新的活力，助力客户在项目目标的实现过程中迈向更高精度、更具创新性的阶段。

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