匀胶机公司-匀胶机-顶旭微控技术(查看)

顶旭光刻机广泛适用于微流控芯片、MEMS器件、光电子器件以及声表面波器件等制备领域。其性能尤其适合高校、科研院所以及企业展开微细加工工艺研究。紧随现代技术的步伐，顶旭桌面微型光刻机的问世为微纳加工注入了新的活力，助力客户在项目目标的实现过程中迈向更高精度、更具创新性的阶段。

顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案

曝光操作步骤

1、安装硅片：将待曝光硅片平放在设备的载台上，确保位置准确。

2、放置光刻板：将光刻板平放在硅片上方，如果使用菲林掩膜，匀胶机报价，需要在其上方放置透明玻璃以保持平稳。

3、设定曝光参数：使用控制面板设置曝光时间和强度，根据具体需求进行调整。

4、启动曝光：确认参数设定无误后，点击启动按钮，匀胶机设计，设备将开始进行曝光。

5、监控曝光过程：在曝光过程中，您可以通过设备界面监控曝光进度，确保一切顺利进行。

6、曝光完成：曝光结束后，设备会发出提示，取出硅片和光刻板。

技术参数

曝光光源：紫外LED光源波长：365nm;

曝光面积：4英寸、6英寸可选；

曝光方式：单面接触式定时曝光；

曝光分辨率：2um；

曝光强度：20~200mW/cm2可调；

曝光不均匀性：≤5%；

光源平行性：≤2°；

光源寿命：≥20000h；

电源输入：AC220V±10V，50HZ

功率：250W

重量：25kg

外形尺寸：382（长）*371（宽）*435（高）

工作环境：温度0℃-40 ℃，相对湿度＜80 %

顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业，匀胶机，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等quan面的微流控解决方案。公司团队拥有丰富的经验和技术积累，持续将专ye知识与创新思维相结合，为客户提供高pin质的解决方案。