SU8光刻机怎么样-顶旭(在线咨询)-福建SU8光刻机

注射泵产品

1 注射泵 DLSP 520 Pro

技术指标LSP02-2B

工作方式 ：注射、拍取、先注射后胜取、无拍取后注射、连续

通道数量： 2

zui大行程 ：140mm

行程分辨率： 0.156um

线速度范围 ：5um/min-130mm/min (液量=线速度X注*器内截面积]

线速度调节分辨率： 5um/min

行程控制精度： 误差E士0.5%行程注zui大行程的30%时》

额定线性推力>180N

注*器选择 ：内置主要厂家、主要型号注she器供选择

注*器自定文： 可直接输入注she器内径

流量校正： 通过校正程序获得更为jing确的液量

显示参数选择： 液量、流量或线速度

掉电记忆 ：重新上电后保持掉电前的参数设置

通信接口： RS495

外形尺寸 ：280X250X140(mm)

适用电源 ：AC 196V-240V/40W

工作环境温度： 0°C~40°C

工作环境相对湿魔<80%

微流控光刻机是一种精密的设备，其报价会受到多种因素的影响。首先，微流控光刻机的制造成本是一个重要的考虑因素，包括设备的材料成本、制造工艺成本、人工成本等。其次，微流控光刻机的性能也是一个重要的考虑因素，包括其精度、速度、稳定性等。此外，微流控光刻机的售后服务也是一个重要的考虑因素，包括设备的维护、维修、升级等。微流控光刻机的市场供求也是一个重要的考虑因素，如果市场上供应过剩，价格可能会下降

前烘

1）将涂布好SU8光刻胶的硅片放置在热板上，进行预热烘烤，SU8光刻机公司，去除光刻胶中的挥发性有ji溶剂，时间和温度根据光刻胶厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um ，设置温度65℃，SU8光刻机设计，烘烤15min，SU8光刻机怎么样，然后温度95度，烘烤15分钟）

曝光

1）将预热后的硅片放置在桌面光刻机托盘上。

2）使用相应的掩模（掩膜）放置在硅片上进行曝光，曝光时间和强度根据SU-8光刻胶的类型和厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um，福建SU8光刻机，设置曝光能量25mw/cm2，时间12s）

后烘

将曝光后的硅片放置在热板上，进行后曝光烘烤，以确保光刻胶的交联反应完成。（举例说明：目标胶厚度50um，设置温度65℃，烘烤7min，然后温度95℃，烘烤3min）

六、显影

将硅片放入显影剂中，使未曝光部分的光刻胶溶解，形成模具的图案。（显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整，此处显影时间20min）

清洗

将显影后的硅片用异bing醇溶剂进行清洗，去除多余的光刻胶。

检查

使用显微镜检查制备的SU-8模具，测试观察制备的微结构尺寸，确认图案的清晰度和质量。