顶旭微控技术(多图)-上海显影机

微流控光刻机是一种精密的设备，其报价会受到多种因素的影响。首先，微流控光刻机的制造成本是一个重要的考虑因素，包括设备的材料成本、制造工艺成本、人工成本等。其次，微流控光刻机的性能也是一个重要的考虑因素，包括其精度、速度、稳定性等。此外，微流控光刻机的售后服务也是一个重要的考虑因素，包括设备的维护、维修、升级等。微流控光刻机的市场供求也是一个重要的考虑因素，如果市场上供应过剩，价格可能会下降

匀胶机

调速范围和时间：

I档：50~10000转/分，时间0~999s

II档：50~10000转/分，显影机，时间0~999s

适用：直径5~100mm硅片及其他材料匀胶

转速稳定性：±1％

胶的均匀性：±2％

电极功率：40W，单相110~240V

真空泵抽气速率：＞60L/min

热板

温度：0~300℃

温度稳定性：±1℃

功率：850W

台面大小：200x200mm

前烘

1）将涂布好SU8光刻胶的硅片放置在热板上，进行预热烘烤，去除光刻胶中的挥发性有ji溶剂，时间和温度根据光刻胶厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um ，设置温度65℃，烘烤15min，然后温度95度，烘烤15分钟）

曝光

1）将预热后的硅片放置在桌面光刻机托盘上。

2）使用相应的掩模（掩膜）放置在硅片上进行曝光，曝光时间和强度根据SU-8光刻胶的类型和厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um，设置曝光能量25mw/cm2，时间12s）

后烘

将曝光后的硅片放置在热板上，进行后曝光烘烤，以确保光刻胶的交联反应完成。（举例说明：目标胶厚度50um，设置温度65℃，烘烤7min，然后温度95℃，烘烤3min）

六、显影

将硅片放入显影剂中，使未曝光部分的光刻胶溶解，形成模具的图案。（显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整，此处显影时间20min）

清洗

将显影后的硅片用异bing醇溶剂进行清洗，去除多余的光刻胶。

检查

使用显微镜检查制备的SU-8模具，测试观察制备的微结构尺寸，确认图案的清晰度和质量。