匀胶机报价-北京匀胶机-顶旭苏州微控技术

使用方法

该设备操作简单，匀胶机报价，易于上手，具体操作如下：

一、曝光前准备工作

1、硅片处理：确保待曝光硅片经过匀胶处理，表面干净平整，没有明显的污渍或破损。

2、选择光刻板：根据项目需要，选择合适尺寸的光刻板，本设备兼容4英寸、5英寸或6英寸。

3、设备检查：仔细检查设备，确保所有部件处于正常工作状态，确保操作环境良好。

二、曝光操作步骤

1、安装硅片：将待曝光硅片平放在设备的载台上，确保位置准确。

2、放置光刻板：将光刻板平放在硅片上方，匀胶机性能，如果使用菲林掩膜，需要在其上方放置透明玻璃以保持平稳。

3、设定曝光参数：使用控制面板设置曝光时间和强度，根据具体需求进行调整。

前烘

1）将涂布好SU8光刻胶的硅片放置在热板上，进行预热烘烤，去除光刻胶中的挥发性有ji溶剂，时间和温度根据光刻胶厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um ，设置温度65℃，烘烤15min，然后温度95度，烘烤15分钟）

曝光

1）将预热后的硅片放置在桌面光刻机托盘上。

2）使用相应的掩模（掩膜）放置在硅片上进行曝光，曝光时间和强度根据SU-8光刻胶的类型和厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um，设置曝光能量25mw/cm2，时间12s）

后烘

将曝光后的硅片放置在热板上，进行后曝光烘烤，以确保光刻胶的交联反应完成。（举例说明：目标胶厚度50um，设置温度65℃，烘烤7min，然后温度95℃，烘烤3min）

六、显影

将硅片放入显影剂中，使未曝光部分的光刻胶溶解，匀胶机公司，形成模具的图案。（显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整，此处显影时间20min）

清洗

将显影后的硅片用异bing醇溶剂进行清洗，去除多余的光刻胶。

检查

使用显微镜检查制备的SU-8模具，测试观察制备的微结构尺寸，确认图案的清晰度和质量。

数显测厚规（千分款）

测量匀胶厚度

量程:0~10mm

精度：0.001mm

公差：≤±0.005mm

观察头：铰链式三目观察头，30°倾斜，北京匀胶机，瞳距48～75mm

目镜：超大视野目镜 10X/22

无xian远平场消色差物镜：4X/0.1，10X/0.25，20X/0.4，40X/0.65

转化器：四孔转换器

载物台：载物台面积300×268mm，移动范围250×250mm

焦距调节：同轴粗微动调焦机构，行程24mm

照明系统 ：6V20W卤素灯，亮度可调

滤色镜 蓝色、黄色、绿色、磨砂玻璃片